Name | 特任准教授 (MIRAI): 西尾和記 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607号室 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
nishio.k.ag -at- m.titech.ac.jp |
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研究分野
- パルスレーザー堆積法
- 酸化物薄膜合成
- リチウムイオン電池
- エネルギーデバイス
学歴
- 2006: 東京理科大学 理工学部 物理科 卒業
- 2008: 東京大学大学院 新領域創成科学研究科 物質系専攻 修士課程修了
- 2011: 東京大学大学院 新領域創成科学研究科 物質系専攻 博士課程修了 博士(科学)
職歴
- 2011 - 2014: 物質・材料研究機構ナノ材料科学環境拠点 ポスドク研究員
- 2014 - 2016: スタンフォード大学 ポスドク研究員
- 2016 - 2017: 東北大学多元物質科学研究所 本間研究室 助教
- 2017 - 2021年7月: 東京工業大学物質理工学院 一杉研究室 特任助教
- 2021年8月 - 現在: 東京工業大学物質理工学院 一杉研究室 特任准教授
受賞歴
- 2012: NIMS-TOYOTA Materials Center Award
最近の論文
- L.C. Seitz, C. F. Dickens, K. Nishio, Y. Hikita, J. Montoya, A. Doyle, C. Kirk, A. Vojvodic, H. Y. Hwang, J. K. Norskov, T. F. Jaramillo,
"A Highly Active and Stable IrOx/SrIrO3 catalyst for the oxygen evolution reaction"
Science 353, 1011 (2016). - Y. Hikita, K. Nishio, L. C. Seitz, P. Chakthranont, T. Tachikawa, T. F. Jaramillo, H. Y. Hwang,
"Band Edge Engineering of Oxide Photoanodes for Photoelectrochemical Water Splitting: Integration of Subsurface Dipoles with Atomic-Scale Control"
Adv. Energy Mater 6, 1502154 (2016). - K. Nishio, H. Y. Hwang, and Y. Hikita,
"Thermodynamic guiding principles in selective synthesis of strontium iridate Ruddlesden-Popper epitaxial films"
APL Materials 4, 036102 (2016). - K. Nishio, T. Ohnishi, K. Mitsuishi, N. Ohta, K. Watanabe, K. Takada,
"Orientation alignment of epitaxial LiCoO2 thin films on vicinal SrTiO3 (100) substrates"
J. Power Sources 325, 306 (2016).
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